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摘要:网络信息时代,各种电子设备出现在我们的生活当中,随着科学技术和工艺的不断进步,电子设备变得越来越智能化和微型化,在满足多功能的同时也要满足便携性.紫外光刻和纳米压印技术作为生产微型电路的两大主要方式,具有高分辨率、低成本和高效率等优点,受到大家的高度关注.而这两大技术中的一个关键组成部分就是光刻胶(抗蚀剂),本文将介绍光刻胶的基本性能要求、最新应用领域、面临的问题及解决方法....
[专利] 发明专利 CN201610348839.3
北京化工大学 2016-10-26
摘要:本发明涉及一种双重响应型可降解光刻胶及其制备方法和使用方法。本发明以能在不同波长紫外光下发生交联和解交联的分子作为交联剂,通过不同波长紫外光照射来实现光刻胶的交联和解交联;采用可水解的结构作为聚合物骨架,常温下能在pH>7的碱水溶液中发生降解,最终得到溶于水的小分子。将交联剂、光引发剂、活性单体和连接分子混合得到光刻胶体系,然后将此光刻胶应用于纳米压印,表现出优异的压印性能和降解性能,很好地解决了光刻胶对模板的损伤问题。此外,它还具有环保的特性,是一种环保型的可降解光刻胶。
[硕士论文] 赵成阳
材料科学与工程 北京化工大学 2017(学位年度)
摘要:纳米压印光刻技术是一种应用于制备集成电路的最有前途、新一代的光刻技术,它克服了传统光学光刻技术中图形分辨率受最短曝光波长的物理限制,对信息技术的发展起着重要作用。本论文研究设计了一种通过硫醇-烯“点击化学”聚合和香豆素二聚得到主链含有可水解的酸酐和可逆交联剂香豆素的交联网状结构,能对pH值和紫外光双重响应的可降解光刻胶,并将其应用于微型图案的制备。主要目的是解决纳米压印过程中的界面问题,降低模板的清洗难度,提高模板的使用寿命和降低环境污染及生产成本。
  首先,我们设计并合成了一种含香豆素的可逆交联剂5,7-二丙烯酰氧基-4-甲基香豆素(DAMC),利用核磁共振仪、傅里叶红外光谱仪、质谱仪和元素分析对其结构进行表征。将其与3,6-二氧杂-1,8-辛烷二硫醇(EGDT)、丙烯酸酐(ALA)和光引发剂α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮(DMPA)复配得到对pH值和紫外光双重响应的可降解型光刻胶。
  其次,研究了该光刻胶的化学特性和物理特性,包括反应动力学、透光率、体积收缩率、热力学性能、表面性能;在不同pH值的水溶液中通过失重法和荧光光谱法分别对固化光刻胶进行降解性能研究。然后,对光刻胶的可逆特性及其对降解的影响进行了研究。
  最后,通过纳米压印和紫外光刻对光刻胶的图形复制性能进行了研究,得到了高分辨率的微型图案。结合香豆素的荧光特性,得到了具有不同颜色的荧光微型图案。
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