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首页 > 专利首页 > 高透射率的钒基多层超晶格薄膜及其制备方法
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高透射率的钒基多层超晶格薄膜及其制备方法
摘要: 本发明涉及高透射率的钒基多层超晶格薄膜及其制备方法,属于薄膜材料领域。所述的超晶格薄膜是在基片上交替沉积VO2薄膜上和金属氧化物薄膜。本发明与现有技术相比,其显著优点为:(1)操作简单,工艺时间短,便于控制,适宜于工业化生产;(2)生长的薄膜厚度能精确控制;(3)生长的薄膜表面平整,分布均匀;(4)生长的薄膜透射率高,能更好的应用于智能窗、光储存、光电开光等...   查看全部>>
  • 专利类型:
    发明专利
  • 申请/专利号:
    CN201210127760.X
  • 申请日期:
    2012-04-26
  • 公开/公告号:
    CN102634758A
  • 公开/公告日:
    2012-08-15
  • 主分类号:
    C23C14/08(2006.01)I  C  C23  C23C  C23C14 
  • 分类号:
    [C23C14/08(2006.01)I, C23C14/35(2006.01)I, C23C14/28(2006.01)I, C09K9/00(2006.01)I, C23C14/08, C23C14/35, C23C14/28, C09K9/00]
  • 申请/专利权人:
  • 发明/设计人:
  • 主申请人地址:
    210094 江苏省南京市孝陵卫200号
  • 专利代理机构:
    南京理工大学专利中心 32203
  • 代理人:
    朱显国
  • 国别省市代码:
    江苏;32
  • 主权项:
    一种高透射率的钒基多层超晶格薄膜,其特征在于所述的多层超晶格薄膜是在基片上交替沉积VO2薄膜和金属氧化物薄膜,所述的金属氧化物为Ti、W、Zn、Gr、Mo或Cu氧化物中的一种或几种。
  • 法律状态:
相关专利(与本文研究内容相同或相近的专利)
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